Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint

850,00 DKK Udsalg • Spar
Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint
Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint
Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint
Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint
Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint
Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint
Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint
Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint

Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket - Støvet mint

850,00 DKK Udsalg • Spar
Farve Dusty mint
Størrelse L

Varen er på lager Kun 1 tilbage på lager Varen er udsolgt Varen er ikke tilgængelig

Pas Normal Studios Dame Mechanism Stow Away Jacket: Pakbar ydeevne til hver tur

Overvind uforudsigeligt vejr uden at gå på kompromis med ydeevnen med Pas Normal Studios Women's Mechanism Stow Away Jacket. Denne ultralette og pakkebare beklædningsgenstand er din uundværlige ledsager til kuldegysninger tidligt om morgenen, uventede regnskyl og kølige nedstigninger.

Altid forberedt:

Pakker småt ned og passer nemt i din baglomme, så du er klar til at møde alt, hvad vejret byder dig på.

Kompromisløs ydeevne:

Race fit minimerer vindmodstanden for optimal ydeevne.

DWR-behandlet japansk nylonstof afviser vand og giver vindbeskyttelse.

Hurtigttørrende materiale leder fugt væk og holder dig tør og komfortabel.

Funktionelle detaljer:

To-vejs lynlås for nemme justeringer på farten.

Forlænget bagpanel med silikonegriber sikrer en sikker pasform og beskytter mod vejsprøjt.

Road to Nowhere-mærket lynlåstrækker tilføjer et strejf af stil.

  • Materiale: 100 % Nylon
  • Pasform: Race
  • Funktioner: Pakbar, DWR-behandlet, hurtigtørrende, to-vejs lynlås, forlænget bagpanel med silikone griber

Er cookies OK?

Vi bruger cookies til at forbedre din browseroplevelse

Lær mere